Согласно сообщению Reuters, ученые в Китае создали прототип машины, которая в будущем может использоваться для производства полупроводниковых чипов, способных питать искусственный интеллект. Источники сообщили изданию, что команда в Шэньчжэне завершила работу над прототипом машины для экстремальной ультрафиолетовой литографии в начале этого года, и в настоящее время он якобы проходит испытания. Машина EUV была, по сообщениям, создана бывшими инженерами нидерландского поставщика полупроводникового оборудования ASML. Reuters утверждает, что Китай нацелен на начало производства собственных EUV-чипов в 2028 году, хотя другие эксперты считают 2030 год более вероятной датой.

EUV — это чрезвычайно сложная технология; ниже приведено пояснение, раскрывающее некоторые детали. Она лежит в основе чипов, производимых такими компаниями, как Intel и TSMC, поэтому любая компания, стремящаяся конкурировать, также должна иметь доступ к EUV. Хотя китайский прототип еще не производит чипы, он, по сообщениям, способен генерировать экстремальное ультрафиолетовое излучение, необходимое для производства чипов.

Если это подтвердится, такое развитие событий позволит Китаю получить контроль над технологиями намного раньше, чем ожидали аналитики. На сегодняшний день EUV в значительной степени находится вне досягаемости западных компаний и используется правительством США как разменную монету. Председатель КНР Си Цзиньпин придал большое значение способности страны производить собственные полупроводники. «Цель состоит в том, чтобы Китай в конечном итоге смог производить передовые чипы на машинах, полностью произведенных в Китае», — сказал источник Reuters. «Китай хочет полностью исключить Соединенные Штаты из своих цепочек поставок».